Cluster
  • FABBRICA INTELLIGENTE
Codice ATECO
M72

Servizio Avanzato Enea disponibile

IMPIANTO PER LA CRESCITA DI STRATI DI MATERIALE CON LA TECNOLOGIA MWCVD

Aspetti innovativi e relativi benefici

L'apparato per la crescita di materiale mediante la Micro Wave Chemical Vapor Deposition è ottimizzato per crescere film di diamante con caratteristiche electronic grade.
L'impianto potrà funzionare 24 ore su 24.

Utilizzo

Crescita di film di diamante con spessori di diverse centinaia di micron da utilizzarsi per rivelatori di radiazione ionizzante e neutroni.

Attività svolte e in corso

L'impianto è in avanzato stato di realizzazione presso il CR ENEA di Frascati.

Caratteristiche

CUSTOM Il servizio fornito dall’impianto può essere adattato con flessibilità a diverse esigenze e contesti

Referente

Ugo Besi Vetrella (ugo.besivetrella <at> enea.it)