Cluster
  • FABBRICA INTELLIGENTE
Codice ATECO
C32, E38, M72

Tecnologia ENEA

IMPIANTO PROTOTIPO PER LA PRODUZIONE DI POLVERI CERAMICHE


Livello di Maturità Tecnologica (TRL)

4÷6

Aspetti innovativi e relativi benefici

Impianto prototipo per il  trattamento e la sintesi di polveri ceramiche basato su tecnologia "torcia plasma DC". L'impianto è progettato per produrre polveri ceramiche (quali SiC, Si3N4, AlN, ecc.) micrometriche e nanometriche, a partire da matrici solide, liquide e gassose. La tecnologia può essere applicata per la produzione di polveri nanometriche a partire da polveri grossolane (es. SiO2, SiC, ecc.).
L'impianto è compatto ed associa alte densità di potenza a tempi di reazione molto brevi, riducendo i tempi di produzione.

Utilizzo

  • Produzione di polveri ceramiche ad alto valore aggiunto
  • Produzione di composti non stechiometrici
  • Produzione di polveri ceramiche nanometriche a partire da polveri di basso valore
  • Ottimizzazione dei processi di produzione mediante riduzione dei tempi di reazione

Attività svolte e in corso

Produzione di silice nanometrica a partire da polvere di sabbia di quarzo. Produzione di Carburo di Silicio nanometrico a partire da Carburo di Silicio di bassa qualità. Produzione di ceramici non ossidici (SiC, Si3N4, AlN) a partire da materie prime seconde (rifiuti e/o biomasse). La sperimentazione del sistema è tuttora in corso.

Referente

Sergio Galvagno (sergio.galvagno <at> enea.it)